TMAH,全稱為四甲基氨基氫氧化物(Tetramethylammonium hydroxide),是一種常見的有機胺鹽堿性化合物,廣泛應用于半導體、光學、化學等領(lǐng)域中。
TMAH是一種具有強堿性的清洗劑,它可以有效地去除半導體晶圓表面的雜質(zhì)和殘留物,保證晶圓表面的干凈和光滑。此外,TMAH在氧化清洗過程中也能起到很好的作用。
TMAH也常用作顯影劑,通常應用于半導體加工工藝中。在光刻過程中,光刻膠的部分區(qū)域被曝光,顯影劑能夠?qū)⑽雌毓獾墓饪棠z部分移除,形成所需的圖案。TMAH具有較高的顯影速率,能夠提高顯影效率和加工效率
TMAH在電化學領(lǐng)域中也有應用。由于它具有較高的離子導電率和良好的穩(wěn)定性,可以用作電解液。在某些電化學應用中,TMAH可以與金屬離子形成穩(wěn)定的絡合物,提高電極反應的效率。
作為分析試劑,TMAH在分析化學領(lǐng)域中也有應用。由于它具有良好的溶解性和穩(wěn)定性,可以作為分析試劑使用。在某些分析應用中,TMAH可以用于提取和分離目標化合物,提高分析的精度和靈敏度。
因此檢測THAM四甲基氫氧化銨濃度就成為必要手段。KRK笠原理化LQ-5Z-Multi,可以現(xiàn)場檢測四甲基氫氧化銨。
一個單位測量8個項目(硫酸、硝酸、鹽酸、TMAH、燒堿、碳酸堿、氨水、水溫)
單組分液體濃度可在%和g/L單位之間切換
耐酸堿的耐化學腐蝕傳感器
自動溫度補償電極和儀器
任意量程校準功能
IP66 級防水結(jié)構(gòu)
名字 | 用于單組分測量的多項目化學濃度計 |
型 | LQ-5Z-多功能 |
測量范圍 | 堿性溶液 TMAH:0.00~5.00%/0.0~50.0g/L 氫氧化鈉:0.00~3.00%/0.0~30.0g/L 碳酸鈉:0.0~10.0%/0~100g/L 氨水:0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 酸溶液 硫酸:0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 硝酸:0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 鹽酸:0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 溫度:0.00~40.00°C |
樣品液體溫度 | 0.0~40.0°攝氏度 |
測量方法 | 電極法(水樣測量) |
校準 | 零跨度校準功能 |
溫度補償 | 自動溫度補償 |
結(jié)構(gòu) | IP66防水結(jié)構(gòu) |
權(quán)力 | 具有 自動斷電功能的堿性電池(LR03×3) |
測量電極 | 4C型,1m電纜標準 |
外形尺寸 | 儀身:38(H)×75(W)×180(D)mm 電極:φ17×180(L)mm |
重量 | 儀器:約300g,電極:約50g |
標準配置 | 儀器、電極、電池、使用說明書、保修卡 |